光刻胶按种类包括I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等。在半导体行业快速发展，各晶圆企业产能扩建下，全球光刻胶市场需求保持了良好的增长态势。
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
全球光刻胶市场竞争格局

数据来源：慧研纵横整理
生产光刻胶的原料主要包括光刻胶树脂、光引发剂、溶剂、单体及其他助剂等，其中树脂和光引发剂是最关键的组分。随着光刻技术的发展，对应于各曝光波长的光刻胶组分，也随着光刻技术的发展而变化。
光刻胶行业发展现状
光刻胶领域全球具有百亿市场。2022年全球光刻胶市场规模约为19亿美元，预计2023年将达到21.34亿美元，同比增长12.32%。
光刻胶是集成电路制造必不可少的关键原材料。2022年中国集成电路产业首次突破万亿元。统计数据显示，2023年中国集成电路产业销售额达到10458.3亿元，同比增长18.2%。
目前，中国光刻胶原料生产领域尚处于起步阶段，呈现出产品种类较少、生产规模较小的特征。2022年中国大陆光刻胶市场规模约84亿元，预计到2024年，中国大陆光刻胶市场规模将增长至140亿元以上，复合增长率约10%。
光刻胶行业竞争格局
全球的光刻胶生产企业主要集中在日本与美国，在最为尖端的ArF干法光刻胶、ArF浸没式光刻胶和EUV光刻胶产品领域，日本与美国厂商拥有绝对的垄断地位，而我国在这些尖端半导体光刻胶产品上虽有一定的技术储备和产品验证，但是在量产层面完全处于空白。
从全球市场来看，2022年行业CR6约为88%，市场集中度高。东京应化、JSR、住友化学、富士胶片四大日本企业分别占据27%、13%、12%、8%的市场份额，陶氏化学占据17%的市场份额，韩国东进占据11%的市场份额。
目前，光刻胶属于技术和资本密集型行业，全球供应市场高度集中。而目前，我国光刻胶自给率较低，生产也主要集中在中低端产品，国产替代的空间广阔。随着国内厂商在高端光刻胶领域的逐步突破，未来国产替代进程有望加速。
综合来看，随着OLED产能规模的扩增，预计至2025年全球光刻胶用量比重将增至约20%，中国光刻胶市场规模也将增长。